Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS / (Registro nro. 282007)
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| 000 -CABECERA | |
|---|---|
| campo de control de longitud fija | 03431nam a22003855i 4500 |
| 001 - NÚMERO DE CONTROL | |
| campo de control | 282007 |
| 003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL | |
| campo de control | MX-SnUAN |
| 005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN | |
| campo de control | 20160429154129.0 |
| 007 - CAMPO FIJO DE DESCRIPCIÓN FÍSICA--INFORMACIÓN GENERAL | |
| campo de control de longitud fija | cr nn 008mamaa |
| 008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL | |
| campo de control de longitud fija | 150903s2007 ne | o |||| 0|eng d |
| 020 ## - NÚMERO INTERNACIONAL ESTÁNDAR DEL LIBRO | |
| Número Internacional Estándar del Libro | 9781402051883 |
| -- | 9781402051883 |
| 024 7# - IDENTIFICADOR DE OTROS ESTÁNDARES | |
| Número estándar o código | 10.1007/9781402051883 |
| Fuente del número o código | doi |
| 035 ## - NÚMERO DE CONTROL DEL SISTEMA | |
| Número de control de sistema | vtls000335076 |
| 039 #9 - NIVEL DE CONTROL BIBLIOGRÁFICO Y DETALLES DE CODIFICACIÓN [OBSOLETO] | |
| Nivel de reglas en descripción bibliográfica | 201509030806 |
| Nivel de esfuerzo utilizado para asignar no-encabezamientos de materia en puntos de acceso | VLOAD |
| Nivel de esfuerzo utilizado en la asignación de encabezamientos de materia | 201404300257 |
| Nivel de esfuerzo utilizado para asignar clasificación | VLOAD |
| -- | 201402041250 |
| -- | staff |
| 040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN | |
| Centro catalogador/agencia de origen | MX-SnUAN |
| Lengua de catalogación | spa |
| Centro/agencia transcriptor | MX-SnUAN |
| Normas de descripción | rda |
| 050 #4 - CLASIFICACIÓN DE LA BIBLIOTECA DEL CONGRESO | |
| Número de clasificación | TK7888.4 |
| 100 1# - ENTRADA PRINCIPAL--NOMBRE DE PERSONA | |
| Nombre de persona | Chiang, Charles C. |
| Término indicativo de función/relación | autor |
| 9 (RLIN) | 308258 |
| 245 10 - MENCIÓN DE TÍTULO | |
| Título | Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS / |
| Mención de responsabilidad, etc. | by Charles C. Chiang, Jamil Kawa. |
| 264 #1 - PRODUCCIÓN, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACIÓN Y COPYRIGHT | |
| Producción, publicación, distribución, fabricación y copyright | Dordrecht : |
| Nombre del de productor, editor, distribuidor, fabricante | Springer Netherlands, |
| Fecha de producción, publicación, distribución, fabricación o copyright | 2007. |
| 300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA | |
| Otras características físicas | recurso en línea. |
| 336 ## - TIPO DE CONTENIDO | |
| Término de tipo de contenido | texto |
| Código de tipo de contenido | txt |
| Fuente | rdacontent |
| 337 ## - TIPO DE MEDIO | |
| Nombre/término del tipo de medio | computadora |
| Código del tipo de medio | c |
| Fuente | rdamedia |
| 338 ## - TIPO DE SOPORTE | |
| Nombre/término del tipo de soporte | recurso en línea |
| Código del tipo de soporte | cr |
| Fuente | rdacarrier |
| 347 ## - CARACTERÍSTICAS DEL ARCHIVO DIGITAL | |
| Tipo de archivo | archivo de texto |
| Formato de codificación | |
| Fuente | rda |
| 490 0# - MENCIÓN DE SERIE | |
| Mención de serie | Series on Integrated Circuits and Systems, |
| Número Internacional Normalizado para Publicaciones Seriadas | 1558-9412 |
| 500 ## - NOTA GENERAL | |
| Nota general | Springer eBooks |
| 505 0# - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO | |
| Nota de contenido con formato | Random Defects -- Systematic Yield - Lithography -- Systematic Yield - Chemical Mechanical Polishing (CMP) -- Variability & Parametric Yield -- Design for Yield -- Yield Prediction -- Conclusions. |
| 520 ## - SUMARIO, ETC. | |
| Sumario, etc. | As we approach the 32 nm CMOS technology node the design and manufacturing communities are dealing with a lithography system that has to print circuit artifacts that are significantly less than half the wavelength of the light source used, with new materials, with tighter pitches, and higher aspect ratio metallurgies. This reality has resulted in three main manufacturability issues that have to be addressed: printability, planarization, and intra-die variability. Addressing in depth the fundamentals impacting those three issues at all the stages of the design process is not a luxury one can ignore. Manufacturability and yield are now one and the same and are no longer a fabrication, packaging, and test concerns; they are the concern of the whole IC community. Yield and manufacturability have to be designed in, and they are everybody’s responsibility. Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS walks the reader through all the aspects of manufacturability and yield in a nano-CMOS process and how to address each aspect at the proper design step starting with the design and layout of standard cells and how to yield-grade libraries for critical area and lithography artifacts through place and route, CMP model based simulation and dummy-fill insertion, mask planning, simulation and manufacturing, and through statistical design and statistical timing closure of the design. It alerts the designer to the pitfalls to watch for and to the good practices that can enhance a design’s manufacturability and yield. This book is a must read book the serious practicing IC designer and an excellent primer for any graduate student intent on having a career in IC design or in EDA tool development. |
| 590 ## - NOTA LOCAL (RLIN) | |
| Nota local | Para consulta fuera de la UANL se requiere clave de acceso remoto. |
| 700 1# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE PERSONA | |
| Nombre de persona | Kawa, Jamil. |
| Término indicativo de función/relación | autor |
| 9 (RLIN) | 308259 |
| 710 2# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE ENTIDAD CORPORATIVA | |
| Nombre de entidad corporativa o nombre de jurisdicción como elemento de entrada | SpringerLink (Servicio en línea) |
| 9 (RLIN) | 299170 |
| 776 08 - ENTRADA/ENLACE A UN FORMATO FÍSICO ADICIONAL | |
| Información de relación/Frase instructiva de referencia | Edición impresa: |
| Número Internacional Estándar del Libro | 9781402051876 |
| 856 40 - LOCALIZACIÓN Y ACCESO ELECTRÓNICOS | |
| Identificador Uniforme del Recurso | <a href="http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-1-4020-5188-3">http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-1-4020-5188-3</a> |
| Nota pública | Conectar a Springer E-Books (Para consulta externa se requiere previa autentificación en Biblioteca Digital UANL) |
| 942 ## - ELEMENTOS DE PUNTO DE ACCESO ADICIONAL (KOHA) | |
| Tipo de ítem Koha | Recurso en línea |
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