Metal-Dielectric Interfaces in Gigascale Electronics : (Registro nro. 288593)
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| 000 -CABECERA | |
|---|---|
| campo de control de longitud fija | 04024nam a22003855i 4500 |
| 001 - NÚMERO DE CONTROL | |
| campo de control | 288593 |
| 003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL | |
| campo de control | MX-SnUAN |
| 005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN | |
| campo de control | 20170705134217.0 |
| 007 - CAMPO FIJO DE DESCRIPCIÓN FÍSICA--INFORMACIÓN GENERAL | |
| campo de control de longitud fija | cr nn 008mamaa |
| 008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL | |
| campo de control de longitud fija | 150903s2012 xxu| o |||| 0|eng d |
| 020 ## - NÚMERO INTERNACIONAL ESTÁNDAR DEL LIBRO | |
| Número Internacional Estándar del Libro | 9781461418122 |
| -- | 9781461418122 |
| 024 7# - IDENTIFICADOR DE OTROS ESTÁNDARES | |
| Número estándar o código | 10.1007/9781461418122 |
| Fuente del número o código | doi |
| 035 ## - NÚMERO DE CONTROL DEL SISTEMA | |
| Número de control de sistema | vtls000340689 |
| 039 #9 - NIVEL DE CONTROL BIBLIOGRÁFICO Y DETALLES DE CODIFICACIÓN [OBSOLETO] | |
| Nivel de reglas en descripción bibliográfica | 201509030350 |
| Nivel de esfuerzo utilizado para asignar no-encabezamientos de materia en puntos de acceso | VLOAD |
| Nivel de esfuerzo utilizado en la asignación de encabezamientos de materia | 201404300419 |
| Nivel de esfuerzo utilizado para asignar clasificación | VLOAD |
| -- | 201402061031 |
| -- | staff |
| 040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN | |
| Centro catalogador/agencia de origen | MX-SnUAN |
| Lengua de catalogación | spa |
| Centro/agencia transcriptor | MX-SnUAN |
| Normas de descripción | rda |
| 050 #4 - CLASIFICACIÓN DE LA BIBLIOTECA DEL CONGRESO | |
| Número de clasificación | TK7800-8360 |
| 100 1# - ENTRADA PRINCIPAL--NOMBRE DE PERSONA | |
| Nombre de persona | He, Ming. |
| Término indicativo de función/relación | autor |
| 9 (RLIN) | 318407 |
| 245 10 - MENCIÓN DE TÍTULO | |
| Título | Metal-Dielectric Interfaces in Gigascale Electronics : |
| Resto del título | Thermal and Electrical Stability / |
| Mención de responsabilidad, etc. | by Ming He, Toh-Ming Lu. |
| 264 #1 - PRODUCCIÓN, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACIÓN Y COPYRIGHT | |
| Producción, publicación, distribución, fabricación y copyright | New York, NY : |
| Nombre del de productor, editor, distribuidor, fabricante | Springer New York, |
| Fecha de producción, publicación, distribución, fabricación o copyright | 2012. |
| 300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA | |
| Extensión | xI, 149 páginas 120 ilustraciones, 48 ilustraciones en color. |
| Otras características físicas | recurso en línea. |
| 336 ## - TIPO DE CONTENIDO | |
| Término de tipo de contenido | texto |
| Código de tipo de contenido | txt |
| Fuente | rdacontent |
| 337 ## - TIPO DE MEDIO | |
| Nombre/término del tipo de medio | computadora |
| Código del tipo de medio | c |
| Fuente | rdamedia |
| 338 ## - TIPO DE SOPORTE | |
| Nombre/término del tipo de soporte | recurso en línea |
| Código del tipo de soporte | cr |
| Fuente | rdacarrier |
| 347 ## - CARACTERÍSTICAS DEL ARCHIVO DIGITAL | |
| Tipo de archivo | archivo de texto |
| Formato de codificación | |
| Fuente | rda |
| 490 0# - MENCIÓN DE SERIE | |
| Mención de serie | Springer Series in Materials Science, |
| Número Internacional Normalizado para Publicaciones Seriadas | 0933-033X ; |
| Designación de volumen o secuencia | 157 |
| 500 ## - NOTA GENERAL | |
| Nota general | Springer eBooks |
| 505 0# - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO | |
| Nota de contenido con formato | Preface -- 1. Introduction -- 2. Metal-Dielectric Diffusion Processes: Fundamentals -- 3. Experimental Techniques -- 4. Al-Dielectric Interfaces -- 5. Cu-Dielectric Interfaces -- 6. Barrier Metal-Dielectric Interfaces -- 7. Self-Forming Barriers. 8. Kinetics of Ion Drift -- 9. Time-Dependent Dielectric Breakdown (TDDB) and Future Directions. |
| 520 ## - SUMARIO, ETC. | |
| Sumario, etc. | Metal-dielectric interfaces are ubiquitous in modern electronics. As advanced gigascale electronic devices continue to shrink, the stability of these interfaces is becoming an increasingly important issue that has a profound impact on the operational reliability of these devices. In this book, the authors present the basic science underlying the thermal and electrical stability of metal-dielectric interfaces and its relationship to the operation of advanced interconnect systems in gigascale electronics. Interface phenomena, including chemical reactions between metals and dielectrics, metallic-atom diffusion, and ion drift, are discussed based on fundamental physical and chemical principles. Schematic diagrams are provided throughout the book to illustrate interface phenomena and the principles that govern them. Metal-Dielectric Interfaces in Gigascale Electronics provides a unifying approach to the diverse and sometimes contradictory test results that are reported in the literature on metal-dielectric interfaces. The goal is to provide readers with a clear account of the relationship between interface science and its applications in interconnect structures. The material presented here will also be of interest to those engaged in field-effect transistor and memristor device research, as well as university researchers and industrial scientists working in the areas of electronic materials processing, semiconductor manufacturing, memory chips, and IC design. Presents a unified approach to understanding the diverse phenomena observed at metal-dielectric interfaces Features fundamental considerations in the physics and chemistry of metal-dielectric interactions Explores mechanisms of metal atom diffusion and metal ion drift in dielectrics Provides keys to understanding reliability in gigascale electronics Focuses on a dynamic area of current research that is a foundation of future interconnect systems, memristors, and solid-state electrolyte devices Presents a unified approach to understanding the diverse phenomena observed at metal-dielectric interfaces |
| 590 ## - NOTA LOCAL (RLIN) | |
| Nota local | Para consulta fuera de la UANL se requiere clave de acceso remoto. |
| 700 1# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE PERSONA | |
| Nombre de persona | Lu, Toh-Ming. |
| Término indicativo de función/relación | autor |
| 9 (RLIN) | 303906 |
| 710 2# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE ENTIDAD CORPORATIVA | |
| Nombre de entidad corporativa o nombre de jurisdicción como elemento de entrada | SpringerLink (Servicio en línea) |
| 9 (RLIN) | 299170 |
| 776 08 - ENTRADA/ENLACE A UN FORMATO FÍSICO ADICIONAL | |
| Información de relación/Frase instructiva de referencia | Edición impresa: |
| Número Internacional Estándar del Libro | 9781461418115 |
| 856 40 - LOCALIZACIÓN Y ACCESO ELECTRÓNICOS | |
| Identificador Uniforme del Recurso | <a href="http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-1-4614-1812-2">http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-1-4614-1812-2</a> |
| Nota pública | Conectar a Springer E-Books (Para consulta externa se requiere previa autentificación en Biblioteca Digital UANL) |
| 942 ## - ELEMENTOS DE PUNTO DE ACCESO ADICIONAL (KOHA) | |
| Tipo de ítem Koha | Recurso en línea |
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