Helium Ion Microscopy : (Registro nro. 290222)
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000 -CABECERA | |
---|---|
campo de control de longitud fija | 03808nam a22003735i 4500 |
001 - NÚMERO DE CONTROL | |
campo de control | 290222 |
003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL | |
campo de control | MX-SnUAN |
005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN | |
campo de control | 20160429154739.0 |
007 - CAMPO FIJO DE DESCRIPCIÓN FÍSICA--INFORMACIÓN GENERAL | |
campo de control de longitud fija | cr nn 008mamaa |
008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL | |
campo de control de longitud fija | 150903s2013 xxu| o |||| 0|eng d |
020 ## - NÚMERO INTERNACIONAL ESTÁNDAR DEL LIBRO | |
Número Internacional Estándar del Libro | 9781461486602 |
-- | 9781461486602 |
024 7# - IDENTIFICADOR DE OTROS ESTÁNDARES | |
Número estándar o código | 10.1007/9781461486602 |
Fuente del número o código | doi |
035 ## - NÚMERO DE CONTROL DEL SISTEMA | |
Número de control de sistema | vtls000342549 |
039 #9 - NIVEL DE CONTROL BIBLIOGRÁFICO Y DETALLES DE CODIFICACIÓN [OBSOLETO] | |
Nivel de reglas en descripción bibliográfica | 201509030855 |
Nivel de esfuerzo utilizado para asignar no-encabezamientos de materia en puntos de acceso | VLOAD |
Nivel de esfuerzo utilizado en la asignación de encabezamientos de materia | 201405050245 |
Nivel de esfuerzo utilizado para asignar clasificación | VLOAD |
-- | 201402061129 |
-- | staff |
040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN | |
Centro catalogador/agencia de origen | MX-SnUAN |
Lengua de catalogación | spa |
Centro/agencia transcriptor | MX-SnUAN |
Normas de descripción | rda |
050 #4 - CLASIFICACIÓN DE LA BIBLIOTECA DEL CONGRESO | |
Número de clasificación | TA404.6 |
100 1# - ENTRADA PRINCIPAL--NOMBRE DE PERSONA | |
Nombre de persona | Joy, David C. |
Término indicativo de función/relación | autor |
9 (RLIN) | 320825 |
245 10 - MENCIÓN DE TÍTULO | |
Título | Helium Ion Microscopy : |
Resto del título | Principles and Applications / |
Mención de responsabilidad, etc. | by David C. Joy. |
264 #1 - PRODUCCIÓN, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACIÓN Y COPYRIGHT | |
Producción, publicación, distribución, fabricación y copyright | New York, NY : |
Nombre del de productor, editor, distribuidor, fabricante | Springer New York : |
-- | Imprint: Springer, |
Fecha de producción, publicación, distribución, fabricación o copyright | 2013. |
300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA | |
Extensión | viii, 64 páginas 29 ilustraciones, 16 ilustraciones en color. |
Otras características físicas | recurso en línea. |
336 ## - TIPO DE CONTENIDO | |
Término de tipo de contenido | texto |
Código de tipo de contenido | txt |
Fuente | rdacontent |
337 ## - TIPO DE MEDIO | |
Nombre/término del tipo de medio | computadora |
Código del tipo de medio | c |
Fuente | rdamedia |
338 ## - TIPO DE SOPORTE | |
Nombre/término del tipo de soporte | recurso en línea |
Código del tipo de soporte | cr |
Fuente | rdacarrier |
347 ## - CARACTERÍSTICAS DEL ARCHIVO DIGITAL | |
Tipo de archivo | archivo de texto |
Formato de codificación | |
Fuente | rda |
490 0# - MENCIÓN DE SERIE | |
Mención de serie | SpringerBriefs in Materials, |
Número Internacional Normalizado para Publicaciones Seriadas | 2192-1091 |
500 ## - NOTA GENERAL | |
Nota general | Springer eBooks |
505 0# - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO | |
Nota de contenido con formato | Chapter 1: Introduction to Helium Ion Microscopy -- Chapter 2: Microscopy with Ions - A brief history -- Chapter 3: Operating the Helium Ion Microscope -- Chapter 4: Ion –Solid Interactions and Image Formation -- Chapter 5: Charging and Damage -- Chapter 6: Microanalysis with the HIM -- Chapter 7: Ion Generated Damage -- Chapter 8: Working with other Ion beams -- Chapter 9: Patterning and Nanofabrication -- Conclusion -- Bibliography -- Appendix: iSE Yields, and IONiSE parameters for He+ excitation of Elements and Compounds -- Index. |
520 ## - SUMARIO, ETC. | |
Sumario, etc. | Helium Ion Microscopy: Principles and Applications describes the theory and discusses the practical details of why scanning microscopes using beams of light ions – such as the Helium Ion Microscope (HIM) – are destined to become the imaging tools of choice for the 21st century. Topics covered include the principles, operation, and performance of the Gaseous Field Ion Source (GFIS), and a comparison of the optics of ion and electron beam microscopes including their operating conditions, resolution, and signal-to-noise performance. The physical principles of Ion-Induced Secondary Electron (iSE) generation by ions are discussed, and an extensive database of iSE yields for many elements and compounds as a function of incident ion species and its energy is included. Beam damage and charging are frequently outcomes of ion beam irradiation, and techniques to minimize such problems are presented. In addition to imaging, ions beams can be used for the controlled deposition, or removal, of selected materials with nanometer precision. The techniques and conditions required for nanofabrication are discussed and demonstrated. Finally, the problem of performing chemical microanalysis with ion beams is considered. Low energy ions cannot generate X-ray emissions, so alternative techniques such as Rutherford Backscatter Imaging (RBI) or Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) are examined. Serves as a concise but authoritative introduction to the latest innovation in scanning microscopy Compares ion and electron beams as options for microscopy Presents a detailed physical model of ion-solid interactions and signal generation Provides a detailed database of iSE yield behavior as a function of the target ion, element, and energy |
590 ## - NOTA LOCAL (RLIN) | |
Nota local | Para consulta fuera de la UANL se requiere clave de acceso remoto. |
710 2# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE ENTIDAD CORPORATIVA | |
Nombre de entidad corporativa o nombre de jurisdicción como elemento de entrada | SpringerLink (Servicio en línea) |
9 (RLIN) | 299170 |
776 08 - ENTRADA/ENLACE A UN FORMATO FÍSICO ADICIONAL | |
Información de relación/Frase instructiva de referencia | Edición impresa: |
Número Internacional Estándar del Libro | 9781461486596 |
856 40 - LOCALIZACIÓN Y ACCESO ELECTRÓNICOS | |
Identificador Uniforme del Recurso | <a href="http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-1-4614-8660-2">http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-1-4614-8660-2</a> |
Nota pública | Conectar a Springer E-Books (Para consulta externa se requiere previa autentificación en Biblioteca Digital UANL) |
942 ## - ELEMENTOS DE PUNTO DE ACCESO ADICIONAL (KOHA) | |
Tipo de ítem Koha | Recurso en línea |
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