TEST - Catálogo BURRF
   

Helium Ion Microscopy : (Registro nro. 290222)

Detalles MARC
000 -CABECERA
campo de control de longitud fija 03808nam a22003735i 4500
001 - NÚMERO DE CONTROL
campo de control 290222
003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL
campo de control MX-SnUAN
005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN
campo de control 20160429154739.0
007 - CAMPO FIJO DE DESCRIPCIÓN FÍSICA--INFORMACIÓN GENERAL
campo de control de longitud fija cr nn 008mamaa
008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL
campo de control de longitud fija 150903s2013 xxu| o |||| 0|eng d
020 ## - NÚMERO INTERNACIONAL ESTÁNDAR DEL LIBRO
Número Internacional Estándar del Libro 9781461486602
-- 9781461486602
024 7# - IDENTIFICADOR DE OTROS ESTÁNDARES
Número estándar o código 10.1007/9781461486602
Fuente del número o código doi
035 ## - NÚMERO DE CONTROL DEL SISTEMA
Número de control de sistema vtls000342549
039 #9 - NIVEL DE CONTROL BIBLIOGRÁFICO Y DETALLES DE CODIFICACIÓN [OBSOLETO]
Nivel de reglas en descripción bibliográfica 201509030855
Nivel de esfuerzo utilizado para asignar no-encabezamientos de materia en puntos de acceso VLOAD
Nivel de esfuerzo utilizado en la asignación de encabezamientos de materia 201405050245
Nivel de esfuerzo utilizado para asignar clasificación VLOAD
-- 201402061129
-- staff
040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN
Centro catalogador/agencia de origen MX-SnUAN
Lengua de catalogación spa
Centro/agencia transcriptor MX-SnUAN
Normas de descripción rda
050 #4 - CLASIFICACIÓN DE LA BIBLIOTECA DEL CONGRESO
Número de clasificación TA404.6
100 1# - ENTRADA PRINCIPAL--NOMBRE DE PERSONA
Nombre de persona Joy, David C.
Término indicativo de función/relación autor
9 (RLIN) 320825
245 10 - MENCIÓN DE TÍTULO
Título Helium Ion Microscopy :
Resto del título Principles and Applications /
Mención de responsabilidad, etc. by David C. Joy.
264 #1 - PRODUCCIÓN, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACIÓN Y COPYRIGHT
Producción, publicación, distribución, fabricación y copyright New York, NY :
Nombre del de productor, editor, distribuidor, fabricante Springer New York :
-- Imprint: Springer,
Fecha de producción, publicación, distribución, fabricación o copyright 2013.
300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA
Extensión viii, 64 páginas 29 ilustraciones, 16 ilustraciones en color.
Otras características físicas recurso en línea.
336 ## - TIPO DE CONTENIDO
Término de tipo de contenido texto
Código de tipo de contenido txt
Fuente rdacontent
337 ## - TIPO DE MEDIO
Nombre/término del tipo de medio computadora
Código del tipo de medio c
Fuente rdamedia
338 ## - TIPO DE SOPORTE
Nombre/término del tipo de soporte recurso en línea
Código del tipo de soporte cr
Fuente rdacarrier
347 ## - CARACTERÍSTICAS DEL ARCHIVO DIGITAL
Tipo de archivo archivo de texto
Formato de codificación PDF
Fuente rda
490 0# - MENCIÓN DE SERIE
Mención de serie SpringerBriefs in Materials,
Número Internacional Normalizado para Publicaciones Seriadas 2192-1091
500 ## - NOTA GENERAL
Nota general Springer eBooks
505 0# - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO
Nota de contenido con formato Chapter 1: Introduction to Helium Ion Microscopy -- Chapter 2: Microscopy with Ions  - A brief history -- Chapter 3: Operating the Helium Ion Microscope -- Chapter 4: Ion –Solid  Interactions  and Image Formation -- Chapter 5: Charging and  Damage -- Chapter 6: Microanalysis with the HIM -- Chapter 7: Ion Generated Damage -- Chapter 8: Working with other Ion beams -- Chapter 9: Patterning and Nanofabrication -- Conclusion -- Bibliography -- Appendix: iSE Yields,  and IONiSE  parameters for  He+ excitation  of Elements and Compounds -- Index.
520 ## - SUMARIO, ETC.
Sumario, etc. Helium Ion Microscopy: Principles and Applications describes the theory and discusses the practical details of why scanning microscopes using beams of light ions – such as the Helium Ion Microscope (HIM) – are destined to become the imaging tools of choice for the 21st century. Topics covered include the principles, operation, and performance of the Gaseous Field Ion Source (GFIS), and a comparison of the optics of ion and electron beam microscopes including their operating conditions, resolution, and signal-to-noise performance. The physical principles of Ion-Induced Secondary Electron (iSE) generation by ions are discussed, and an extensive database of iSE yields for many elements and compounds as a function of incident ion species and its energy is included. Beam damage and charging are frequently outcomes of ion beam irradiation, and techniques to minimize such problems are presented. In addition to imaging, ions beams can be used for the controlled deposition, or removal, of selected materials with nanometer precision. The techniques and conditions required for nanofabrication are discussed and demonstrated. Finally, the problem of performing chemical microanalysis with ion beams is considered. Low energy ions cannot generate X-ray emissions, so alternative techniques such as Rutherford Backscatter Imaging (RBI) or Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) are examined. Serves as a concise but authoritative introduction to the latest innovation in scanning microscopy Compares ion and electron beams as options for microscopy Presents a detailed physical model of ion-solid interactions and signal generation Provides a detailed database of iSE yield behavior as a function of the target ion, element, and energy
590 ## - NOTA LOCAL (RLIN)
Nota local Para consulta fuera de la UANL se requiere clave de acceso remoto.
710 2# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE ENTIDAD CORPORATIVA
Nombre de entidad corporativa o nombre de jurisdicción como elemento de entrada SpringerLink (Servicio en línea)
9 (RLIN) 299170
776 08 - ENTRADA/ENLACE A UN FORMATO FÍSICO ADICIONAL
Información de relación/Frase instructiva de referencia Edición impresa:
Número Internacional Estándar del Libro 9781461486596
856 40 - LOCALIZACIÓN Y ACCESO ELECTRÓNICOS
Identificador Uniforme del Recurso <a href="http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-1-4614-8660-2">http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-1-4614-8660-2</a>
Nota pública Conectar a Springer E-Books (Para consulta externa se requiere previa autentificación en Biblioteca Digital UANL)
942 ## - ELEMENTOS DE PUNTO DE ACCESO ADICIONAL (KOHA)
Tipo de ítem Koha Recurso en línea

No hay ítems disponibles.

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