Porous Semiconductors : (Registro nro. 290834)
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| 000 -CABECERA | |
|---|---|
| campo de control de longitud fija | 03916nam a22003855i 4500 |
| 001 - NÚMERO DE CONTROL | |
| campo de control | 290834 |
| 003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL | |
| campo de control | MX-SnUAN |
| 005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN | |
| campo de control | 20170705134222.0 |
| 007 - CAMPO FIJO DE DESCRIPCIÓN FÍSICA--INFORMACIÓN GENERAL | |
| campo de control de longitud fija | cr nn 008mamaa |
| 008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL | |
| campo de control de longitud fija | 150903s2009 xxk| o |||| 0|eng d |
| 020 ## - NÚMERO INTERNACIONAL ESTÁNDAR DEL LIBRO | |
| Número Internacional Estándar del Libro | 9781848825789 |
| -- | 9781848825789 |
| 024 7# - IDENTIFICADOR DE OTROS ESTÁNDARES | |
| Número estándar o código | 10.1007/9781848825789 |
| Fuente del número o código | doi |
| 035 ## - NÚMERO DE CONTROL DEL SISTEMA | |
| Número de control de sistema | vtls000344479 |
| 039 #9 - NIVEL DE CONTROL BIBLIOGRÁFICO Y DETALLES DE CODIFICACIÓN [OBSOLETO] | |
| Nivel de reglas en descripción bibliográfica | 201509030408 |
| Nivel de esfuerzo utilizado para asignar no-encabezamientos de materia en puntos de acceso | VLOAD |
| Nivel de esfuerzo utilizado en la asignación de encabezamientos de materia | 201405050308 |
| Nivel de esfuerzo utilizado para asignar clasificación | VLOAD |
| -- | 201402061258 |
| -- | staff |
| 040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN | |
| Centro catalogador/agencia de origen | MX-SnUAN |
| Lengua de catalogación | spa |
| Centro/agencia transcriptor | MX-SnUAN |
| Normas de descripción | rda |
| 050 #4 - CLASIFICACIÓN DE LA BIBLIOTECA DEL CONGRESO | |
| Número de clasificación | TA405-409.3 |
| 100 1# - ENTRADA PRINCIPAL--NOMBRE DE PERSONA | |
| Nombre de persona | Kochergin, Vladimir. |
| Término indicativo de función/relación | autor |
| 9 (RLIN) | 321788 |
| 245 10 - MENCIÓN DE TÍTULO | |
| Título | Porous Semiconductors : |
| Resto del título | Optical Properties and Applications / |
| Mención de responsabilidad, etc. | by Vladimir Kochergin, Helmut Föll. |
| 264 #1 - PRODUCCIÓN, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACIÓN Y COPYRIGHT | |
| Producción, publicación, distribución, fabricación y copyright | London : |
| Nombre del de productor, editor, distribuidor, fabricante | Springer London, |
| Fecha de producción, publicación, distribución, fabricación o copyright | 2009. |
| 300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA | |
| Extensión | Ix, 207 páginas |
| Otras características físicas | recurso en línea. |
| 336 ## - TIPO DE CONTENIDO | |
| Término de tipo de contenido | texto |
| Código de tipo de contenido | txt |
| Fuente | rdacontent |
| 337 ## - TIPO DE MEDIO | |
| Nombre/término del tipo de medio | computadora |
| Código del tipo de medio | c |
| Fuente | rdamedia |
| 338 ## - TIPO DE SOPORTE | |
| Nombre/término del tipo de soporte | recurso en línea |
| Código del tipo de soporte | cr |
| Fuente | rdacarrier |
| 347 ## - CARACTERÍSTICAS DEL ARCHIVO DIGITAL | |
| Tipo de archivo | archivo de texto |
| Formato de codificación | |
| Fuente | rda |
| 490 0# - MENCIÓN DE SERIE | |
| Mención de serie | Engineering Materials and Processes, |
| Número Internacional Normalizado para Publicaciones Seriadas | 1619-0181 |
| 500 ## - NOTA GENERAL | |
| Nota general | Springer eBooks |
| 505 0# - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO | |
| Nota de contenido con formato | Pore Etching Essentials -- Subwavelength Approach of Light Propagation Through Porous Semiconductors -- Leaky Waveguide Approach of Light Propagation Through Porous Semiconductors -- Normal Waveguide Approach of Light Propagation Through Porous Semiconductors -- Optical Components from Mesoporous Silicon -- Long Wave Pass Filters -- Macroporous Silicon Ultraviolet Filters -- Polarization Components for the UV Range -- Retroreflection Suppression Plate -- Omnidirectional IR Filters -- Biochemical Sensors Based on Porous Silicon. |
| 520 ## - SUMARIO, ETC. | |
| Sumario, etc. | Porous semiconductor materials are finding applications in many areas of science and technology. Porous Semiconductors: Optical Properties and Applications provides an examination of these new types of materials, with an emphasis on optical properties and applications. Beginning with a description of the basic electrochemistry of porous semiconductors and the different kinds of porous semiconductor materials that can be fabricated, the book moves on to describe the fabrication processes used in the production of porous semiconductor optical components. This is then followed by a detailed description of peculiar light propagation phenomena. Concluding the text, a number of optical components based on porous semiconductor materials are discussed in depth. Porous Semiconductors: Optical Properties and Applications provides a thorough grounding in the design, fabrication and theory behind the optical applications of porous semiconductor materials for graduate and undergraduate students interested in optics, photonics, MEMS, and material science. The book is also a valuable reference for scientists, researchers, and engineers in the field of optics and materials science, who are looking to increase their understanding of the optical properties and applications of porous semiconductors. The Engineering Materials and Processes series focuses on all forms of materials and the processes used to synthesise and formulate them as they relate to the various engineering disciplines. The series deals with a diverse range of materials: ceramics, metals (ferrous and non-ferrous), semiconductors, composites, polymers, biomimetics, etc. Each monograph in the series is written by a specialist and demonstrates how enhancements in materials and the processes associated with them can improve performance in the field of engineering in which they are used. |
| 590 ## - NOTA LOCAL (RLIN) | |
| Nota local | Para consulta fuera de la UANL se requiere clave de acceso remoto. |
| 700 1# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE PERSONA | |
| Nombre de persona | Föll, Helmut. |
| Término indicativo de función/relación | autor |
| 9 (RLIN) | 321789 |
| 710 2# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE ENTIDAD CORPORATIVA | |
| Nombre de entidad corporativa o nombre de jurisdicción como elemento de entrada | SpringerLink (Servicio en línea) |
| 9 (RLIN) | 299170 |
| 776 08 - ENTRADA/ENLACE A UN FORMATO FÍSICO ADICIONAL | |
| Información de relación/Frase instructiva de referencia | Edición impresa: |
| Número Internacional Estándar del Libro | 9781848825772 |
| 856 40 - LOCALIZACIÓN Y ACCESO ELECTRÓNICOS | |
| Identificador Uniforme del Recurso | <a href="http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-1-84882-578-9">http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-1-84882-578-9</a> |
| Nota pública | Conectar a Springer E-Books (Para consulta externa se requiere previa autentificación en Biblioteca Digital UANL) |
| 942 ## - ELEMENTOS DE PUNTO DE ACCESO ADICIONAL (KOHA) | |
| Tipo de ítem Koha | Recurso en línea |
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