Dilute III-V Nitride Semiconductors and Material Systems : (Registro nro. 297201)
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| 000 -CABECERA | |
|---|---|
| campo de control de longitud fija | 04281nam a22003735i 4500 |
| 001 - NÚMERO DE CONTROL | |
| campo de control | 297201 |
| 003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL | |
| campo de control | MX-SnUAN |
| 005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN | |
| campo de control | 20160429155412.0 |
| 007 - CAMPO FIJO DE DESCRIPCIÓN FÍSICA--INFORMACIÓN GENERAL | |
| campo de control de longitud fija | cr nn 008mamaa |
| 008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL | |
| campo de control de longitud fija | 150903s2008 gw | o |||| 0|eng d |
| 020 ## - NÚMERO INTERNACIONAL ESTÁNDAR DEL LIBRO | |
| Número Internacional Estándar del Libro | 9783540745297 |
| -- | 9783540745297 |
| 024 7# - IDENTIFICADOR DE OTROS ESTÁNDARES | |
| Número estándar o código | 10.1007/9783540745297 |
| Fuente del número o código | doi |
| 035 ## - NÚMERO DE CONTROL DEL SISTEMA | |
| Número de control de sistema | vtls000350871 |
| 039 #9 - NIVEL DE CONTROL BIBLIOGRÁFICO Y DETALLES DE CODIFICACIÓN [OBSOLETO] | |
| Nivel de reglas en descripción bibliográfica | 201509030502 |
| Nivel de esfuerzo utilizado para asignar no-encabezamientos de materia en puntos de acceso | VLOAD |
| Nivel de esfuerzo utilizado en la asignación de encabezamientos de materia | 201405060241 |
| Nivel de esfuerzo utilizado para asignar clasificación | VLOAD |
| -- | 201402171108 |
| -- | staff |
| 040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN | |
| Centro catalogador/agencia de origen | MX-SnUAN |
| Lengua de catalogación | spa |
| Centro/agencia transcriptor | MX-SnUAN |
| Normas de descripción | rda |
| 050 #4 - CLASIFICACIÓN DE LA BIBLIOTECA DEL CONGRESO | |
| Número de clasificación | TA1750-1750.22 |
| 100 1# - ENTRADA PRINCIPAL--NOMBRE DE PERSONA | |
| Nombre de persona | Erol, Ay?e. |
| Término indicativo de función/relación | editor. |
| 9 (RLIN) | 332793 |
| 245 10 - MENCIÓN DE TÍTULO | |
| Título | Dilute III-V Nitride Semiconductors and Material Systems : |
| Resto del título | Physics and Technology / |
| Mención de responsabilidad, etc. | edited by Ay?e Erol. |
| 264 #1 - PRODUCCIÓN, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACIÓN Y COPYRIGHT | |
| Producción, publicación, distribución, fabricación y copyright | Berlin, Heidelberg : |
| Nombre del de productor, editor, distribuidor, fabricante | Springer Berlin Heidelberg, |
| Fecha de producción, publicación, distribución, fabricación o copyright | 2008. |
| 300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA | |
| Otras características físicas | recurso en línea. |
| 336 ## - TIPO DE CONTENIDO | |
| Término de tipo de contenido | texto |
| Código de tipo de contenido | txt |
| Fuente | rdacontent |
| 337 ## - TIPO DE MEDIO | |
| Nombre/término del tipo de medio | computadora |
| Código del tipo de medio | c |
| Fuente | rdamedia |
| 338 ## - TIPO DE SOPORTE | |
| Nombre/término del tipo de soporte | recurso en línea |
| Código del tipo de soporte | cr |
| Fuente | rdacarrier |
| 347 ## - CARACTERÍSTICAS DEL ARCHIVO DIGITAL | |
| Tipo de archivo | archivo de texto |
| Formato de codificación | |
| Fuente | rda |
| 490 0# - MENCIÓN DE SERIE | |
| Mención de serie | Materials Science, |
| Número Internacional Normalizado para Publicaciones Seriadas | 0933-033X ; |
| Designación de volumen o secuencia | 105 |
| 500 ## - NOTA GENERAL | |
| Nota general | Springer eBooks |
| 505 0# - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO | |
| Nota de contenido con formato | Energetic Beam Synthesis of Dilute Nitrides and Related Alloys -- Impact of Nitrogen Ion Density on the Optical and Structural Properties of MBE Grown GaInNAs/GaAs (100) and (111)B Quantum Wells -- Electronic Band Structure of Highly Mismatched Semiconductor Alloys -- Electronic Structure of GaNxAs1?x Under Pressure -- Experimental Studies of GaInNAs Conduction Band Structure -- Electromodulation Spectroscopy of GaInNAsSb/GaAs Quantum Wells: The Conduction Band Offset and the Electron Effective Mass Issues -- The Effects of Nitrogen Incorporation on Photogenerated Carrier Dynamics in Dilute Nitrides -- Influence of the Growth Temperature on the Composition Fluctuations of GaInNAs/GaAs Quantum Wells -- Assessing the Preferential Chemical Bonding of Nitrogen in Novel Dilute III–As–N Alloys -- The Hall Mobility in Dilute Nitrides -- Spin Dynamics in Dilute Nitride -- Optical and Electronic Properties of GaInNP Alloys: A New Material for Lattice Matching to GaAs -- Properties and Laser Applications of the GaP-Based (GaNAsP)-Material System for Integration to Si Substrates -- Comparison of the Electronic Band Formation and Band Structure of GaNAs and GaNP -- Doping, Electrical Properties and Solar Cell Application of GaInNAs -- Elemental Devices and Circuits for Monolithic Optoelectronic-Integrated Circuit Fabricated in Dislocation-Free Si/III–V-N Alloy Layers Grown on Si Substrate -- Analysis of GaInNAs-Based Devices: Lasers and Semiconductor Optical Amplifiers -- Dilute Nitride Quantum Well Lasers by Metalorganic Chemical Vapor Deposition -- Interdiffused GaInNAsSb Quantum Well on GaAs for 1,300–1,550 nm Diode Lasers -- Vertical Cavity Semiconductor Optical Amplifiers Based on Dilute Nitrides -- Dilute Nitride Photodetector and Modulator Devices. |
| 520 ## - SUMARIO, ETC. | |
| Sumario, etc. | A major current challenge for semiconductor devices is to develop materials for the next generation of optical communication systems and solar power conversion applications. Recently, extensive research has revealed that an introduction of only a few percentages of nitrogen into III-V semiconductor lattice leads to a dramatic reduction of the band gap. This discovery has opened the possibility of using these material systems for applications ranging from lasers to solar cells. Physics and Technology of Dilute III-V Nitride Semiconductors & Novel Dilute Nitride Material Systems reviews the current status of research and development in dilute III-V nitrides, with 24 chapters from prominent research groups covering recent progress in growth techniques, experimental characterization of band structure, defects carrier transport, transport properties, dynamic behavior of N atoms, device applications, modeling of device design, novel optoelectronic integrated circuits, and novel nitrogen containing III-V materials. |
| 590 ## - NOTA LOCAL (RLIN) | |
| Nota local | Para consulta fuera de la UANL se requiere clave de acceso remoto. |
| 710 2# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE ENTIDAD CORPORATIVA | |
| Nombre de entidad corporativa o nombre de jurisdicción como elemento de entrada | SpringerLink (Servicio en línea) |
| 9 (RLIN) | 299170 |
| 776 08 - ENTRADA/ENLACE A UN FORMATO FÍSICO ADICIONAL | |
| Información de relación/Frase instructiva de referencia | Edición impresa: |
| Número Internacional Estándar del Libro | 9783540745280 |
| 856 40 - LOCALIZACIÓN Y ACCESO ELECTRÓNICOS | |
| Identificador Uniforme del Recurso | <a href="http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-3-540-74529-7">http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-3-540-74529-7</a> |
| Nota pública | Conectar a Springer E-Books (Para consulta externa se requiere previa autentificación en Biblioteca Digital UANL) |
| 942 ## - ELEMENTOS DE PUNTO DE ACCESO ADICIONAL (KOHA) | |
| Tipo de ítem Koha | Recurso en línea |
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