Reactive Sputter Deposition / (Registro nro. 297873)
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| 000 -CABECERA | |
|---|---|
| campo de control de longitud fija | 03076nam a22003855i 4500 |
| 001 - NÚMERO DE CONTROL | |
| campo de control | 297873 |
| 003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL | |
| campo de control | MX-SnUAN |
| 005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN | |
| campo de control | 20170705134241.0 |
| 007 - CAMPO FIJO DE DESCRIPCIÓN FÍSICA--INFORMACIÓN GENERAL | |
| campo de control de longitud fija | cr nn 008mamaa |
| 008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL | |
| campo de control de longitud fija | 150903s2008 gw | o |||| 0|eng d |
| 020 ## - NÚMERO INTERNACIONAL ESTÁNDAR DEL LIBRO | |
| Número Internacional Estándar del Libro | 9783540766643 |
| -- | 9783540766643 |
| 024 7# - IDENTIFICADOR DE OTROS ESTÁNDARES | |
| Número estándar o código | 10.1007/9783540766643 |
| Fuente del número o código | doi |
| 035 ## - NÚMERO DE CONTROL DEL SISTEMA | |
| Número de control de sistema | vtls000351253 |
| 039 #9 - NIVEL DE CONTROL BIBLIOGRÁFICO Y DETALLES DE CODIFICACIÓN [OBSOLETO] | |
| Nivel de reglas en descripción bibliográfica | 201509030421 |
| Nivel de esfuerzo utilizado para asignar no-encabezamientos de materia en puntos de acceso | VLOAD |
| Nivel de esfuerzo utilizado en la asignación de encabezamientos de materia | 201405060247 |
| Nivel de esfuerzo utilizado para asignar clasificación | VLOAD |
| -- | 201402171117 |
| -- | staff |
| 040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN | |
| Centro catalogador/agencia de origen | MX-SnUAN |
| Lengua de catalogación | spa |
| Centro/agencia transcriptor | MX-SnUAN |
| Normas de descripción | rda |
| 050 #4 - CLASIFICACIÓN DE LA BIBLIOTECA DEL CONGRESO | |
| Número de clasificación | TA418.7-418.76 |
| 100 1# - ENTRADA PRINCIPAL--NOMBRE DE PERSONA | |
| Nombre de persona | Depla, Diederik. |
| Término indicativo de función/relación | editor. |
| 9 (RLIN) | 333857 |
| 245 10 - MENCIÓN DE TÍTULO | |
| Título | Reactive Sputter Deposition / |
| Mención de responsabilidad, etc. | edited by Diederik Depla, Stijn Mahieu. |
| 264 #1 - PRODUCCIÓN, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACIÓN Y COPYRIGHT | |
| Producción, publicación, distribución, fabricación y copyright | Berlin, Heidelberg : |
| Nombre del de productor, editor, distribuidor, fabricante | Springer Berlin Heidelberg, |
| Fecha de producción, publicación, distribución, fabricación o copyright | 2008. |
| 300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA | |
| Otras características físicas | recurso en línea. |
| 336 ## - TIPO DE CONTENIDO | |
| Término de tipo de contenido | texto |
| Código de tipo de contenido | txt |
| Fuente | rdacontent |
| 337 ## - TIPO DE MEDIO | |
| Nombre/término del tipo de medio | computadora |
| Código del tipo de medio | c |
| Fuente | rdamedia |
| 338 ## - TIPO DE SOPORTE | |
| Nombre/término del tipo de soporte | recurso en línea |
| Código del tipo de soporte | cr |
| Fuente | rdacarrier |
| 347 ## - CARACTERÍSTICAS DEL ARCHIVO DIGITAL | |
| Tipo de archivo | archivo de texto |
| Formato de codificación | |
| Fuente | rda |
| 490 0# - MENCIÓN DE SERIE | |
| Mención de serie | Springer Series in Materials Science, |
| Número Internacional Normalizado para Publicaciones Seriadas | 0933-033X ; |
| Designación de volumen o secuencia | 109 |
| 500 ## - NOTA GENERAL | |
| Nota general | Springer eBooks |
| 505 0# - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO | |
| Nota de contenido con formato | Simulation of the Sputtering Process -- Electron Emission from Surfaces Induced by Slow Ions and Atoms -- Modeling of the Magnetron Discharge -- Modelling of Reactive Sputtering Processes -- Depositing Aluminium Oxide: A Case Study of Reactive Magnetron Sputtering -- Transport of Sputtered Particles Through the Gas Phase -- Energy Deposition at the Substrate in a Magnetron Sputtering System -- Process Diagnostics -- Optical Plasma Diagnostics During Reactive Magnetron Sputtering -- Reactive Magnetron Sputtering of Indium Tin Oxide Thin Films: The Cross-Corner and Cross-Magnetron Effect -- Reactively Sputter-Deposited Solid Electrolytes and Their Applications -- Reactive SputteredWide-Bandgap p-Type Semiconducting Spinel AB2O4 and Delafossite ABO2 Thin Films for “Transparent Electronics” -- Oxide-Based Electrochromic Materials and Devices Prepared by Magnetron Sputtering -- Atomic Assembly of Magnetoresistive Multilayers. |
| 520 ## - SUMARIO, ETC. | |
| Sumario, etc. | The use of thin films is continuously expanding. In the family of Physical Vapour Deposition techniques, sputtering is one of the most important over the past 40 years. In this book, all aspects of the reactive magnetron sputtering process, from the discharge up to the resulting thin film growth, are described in detail, allowing the reader to understand the complete process. Hence, this book gives necessary information for those who want to: - start with reactive magnetron sputtering - understand and investigate the technique - control their sputtering process - tune their existing process, obtaining the desired thin films. |
| 590 ## - NOTA LOCAL (RLIN) | |
| Nota local | Para consulta fuera de la UANL se requiere clave de acceso remoto. |
| 700 1# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE PERSONA | |
| Nombre de persona | Mahieu, Stijn. |
| Término indicativo de función/relación | editor. |
| 9 (RLIN) | 333858 |
| 710 2# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE ENTIDAD CORPORATIVA | |
| Nombre de entidad corporativa o nombre de jurisdicción como elemento de entrada | SpringerLink (Servicio en línea) |
| 9 (RLIN) | 299170 |
| 776 08 - ENTRADA/ENLACE A UN FORMATO FÍSICO ADICIONAL | |
| Información de relación/Frase instructiva de referencia | Edición impresa: |
| Número Internacional Estándar del Libro | 9783540766629 |
| 856 40 - LOCALIZACIÓN Y ACCESO ELECTRÓNICOS | |
| Identificador Uniforme del Recurso | <a href="http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-3-540-76664-3">http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-3-540-76664-3</a> |
| Nota pública | Conectar a Springer E-Books (Para consulta externa se requiere previa autentificación en Biblioteca Digital UANL) |
| 942 ## - ELEMENTOS DE PUNTO DE ACCESO ADICIONAL (KOHA) | |
| Tipo de ítem Koha | Recurso en línea |
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