Nanofabrication : (Registro nro. 307963)
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| 000 -CABECERA | |
|---|---|
| campo de control de longitud fija | 02930nam a22003735i 4500 |
| 001 - NÚMERO DE CONTROL | |
| campo de control | 307963 |
| 003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL | |
| campo de control | MX-SnUAN |
| 005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN | |
| campo de control | 20170705134316.0 |
| 007 - CAMPO FIJO DE DESCRIPCIÓN FÍSICA--INFORMACIÓN GENERAL | |
| campo de control de longitud fija | cr nn 008mamaa |
| 008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL | |
| campo de control de longitud fija | 150903s2012 au | o |||| 0|eng d |
| 020 ## - NÚMERO INTERNACIONAL ESTÁNDAR DEL LIBRO | |
| Número Internacional Estándar del Libro | 9783709104248 |
| -- | 9783709104248 |
| 024 7# - IDENTIFICADOR DE OTROS ESTÁNDARES | |
| Número estándar o código | 10.1007/9783709104248 |
| Fuente del número o código | doi |
| 035 ## - NÚMERO DE CONTROL DEL SISTEMA | |
| Número de control de sistema | vtls000362547 |
| 039 #9 - NIVEL DE CONTROL BIBLIOGRÁFICO Y DETALLES DE CODIFICACIÓN [OBSOLETO] | |
| Nivel de reglas en descripción bibliográfica | 201509031038 |
| Nivel de esfuerzo utilizado para asignar no-encabezamientos de materia en puntos de acceso | VLOAD |
| Nivel de esfuerzo utilizado en la asignación de encabezamientos de materia | 201405070331 |
| Nivel de esfuerzo utilizado para asignar clasificación | VLOAD |
| -- | 201402211052 |
| -- | staff |
| 040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN | |
| Centro catalogador/agencia de origen | MX-SnUAN |
| Lengua de catalogación | spa |
| Centro/agencia transcriptor | MX-SnUAN |
| Normas de descripción | rda |
| 050 #4 - CLASIFICACIÓN DE LA BIBLIOTECA DEL CONGRESO | |
| Número de clasificación | T174.7 |
| 100 1# - ENTRADA PRINCIPAL--NOMBRE DE PERSONA | |
| Nombre de persona | Stepanova, Maria. |
| Término indicativo de función/relación | editor. |
| 9 (RLIN) | 347749 |
| 245 10 - MENCIÓN DE TÍTULO | |
| Título | Nanofabrication : |
| Resto del título | Techniques and Principles / |
| Mención de responsabilidad, etc. | edited by Maria Stepanova, Steven Dew. |
| 264 #1 - PRODUCCIÓN, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACIÓN Y COPYRIGHT | |
| Producción, publicación, distribución, fabricación y copyright | Vienna : |
| Nombre del de productor, editor, distribuidor, fabricante | Springer Vienna, |
| Fecha de producción, publicación, distribución, fabricación o copyright | 2012. |
| 300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA | |
| Extensión | viii, 344 páginas 252 ilustraciones, 76 ilustraciones en color. |
| Otras características físicas | recurso en línea. |
| 336 ## - TIPO DE CONTENIDO | |
| Término de tipo de contenido | texto |
| Código de tipo de contenido | txt |
| Fuente | rdacontent |
| 337 ## - TIPO DE MEDIO | |
| Nombre/término del tipo de medio | computadora |
| Código del tipo de medio | c |
| Fuente | rdamedia |
| 338 ## - TIPO DE SOPORTE | |
| Nombre/término del tipo de soporte | recurso en línea |
| Código del tipo de soporte | cr |
| Fuente | rdacarrier |
| 347 ## - CARACTERÍSTICAS DEL ARCHIVO DIGITAL | |
| Tipo de archivo | archivo de texto |
| Formato de codificación | |
| Fuente | rda |
| 500 ## - NOTA GENERAL | |
| Nota general | Springer eBooks |
| 505 0# - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO | |
| Nota de contenido con formato | 1 Introduction -- Directions in Nanofabrication -- 2 Nanolithography -- Fundamentals of Electron Beam Exposure and Development -- Simulation of Electron Beam Exposure and Resist Processing for Nano-Patterning -- Helium Ion Lithography -- Nanoimprint Technologies -- 3 Deposition at the Nanoscale -- Atomic Layer Deposition for Nanotechnology -- Surface Functionalization in the Nanoscale Domain -- Nanostructures Based on Self-Assembly of Block Copolymers -- Epitaxial Growth of Metals on Semiconductors Via Electrodeposition -- 4 Nanoscale Etching and Patterning -- Chemical Mechanical Polish for Nanotechnology -- Deposition, Milling, and Etching with a Focused Helium Ion Beam -- Laser Nanopatterning -- Templating and Pattern Transfer Using Anodized Nanoporous Alumina/Titania.-. |
| 520 ## - SUMARIO, ETC. | |
| Sumario, etc. | Intended to update scientists and engineers on the current state of the art in a variety of key techniques used extensively in the fabrication of structures at the nanoscale. The present work covers the essential technologies for creating sub 25 nm features lithographically, depositing layers with nanometer control, and etching patterns and structures at the nanoscale. A distinguishing feature of this book is a focus not on extension of microelectronics fabrication, but rather on techniques applicable for building NEMS, biosensors, nanomaterials, photonic crystals, and other novel devices and structures that will revolutionize society in the coming years. |
| 590 ## - NOTA LOCAL (RLIN) | |
| Nota local | Para consulta fuera de la UANL se requiere clave de acceso remoto. |
| 700 1# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE PERSONA | |
| Nombre de persona | Dew, Steven. |
| Término indicativo de función/relación | editor. |
| 9 (RLIN) | 347750 |
| 710 2# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE ENTIDAD CORPORATIVA | |
| Nombre de entidad corporativa o nombre de jurisdicción como elemento de entrada | SpringerLink (Servicio en línea) |
| 9 (RLIN) | 299170 |
| 776 08 - ENTRADA/ENLACE A UN FORMATO FÍSICO ADICIONAL | |
| Información de relación/Frase instructiva de referencia | Edición impresa: |
| Número Internacional Estándar del Libro | 9783709104231 |
| 856 40 - LOCALIZACIÓN Y ACCESO ELECTRÓNICOS | |
| Identificador Uniforme del Recurso | <a href="http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-3-7091-0424-8">http://remoto.dgb.uanl.mx/login?url=http://dx.doi.org/10.1007/978-3-7091-0424-8</a> |
| Nota pública | Conectar a Springer E-Books (Para consulta externa se requiere previa autentificación en Biblioteca Digital UANL) |
| 942 ## - ELEMENTOS DE PUNTO DE ACCESO ADICIONAL (KOHA) | |
| Tipo de ítem Koha | Recurso en línea |
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